国内首例!半导体及光伏用高纯石英砂中试线投产!

2026-01-03
12月20日,位于十堰高新区的湖北鑫阳半导体科技有限公司中试线正式投产


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据了解,高纯石英砂所具有的独特的物理、化学特性,使其在航空、航天、电子、机械等许多高科技产品中发挥着越来越重要的作用,但是国内半导体行业所用的高纯度石英砂都属国外进口,国内的高纯度石英砂开发和生产基本还处于空白

湖北鑫阳半导体科技有限公司副总经理沈棽介绍说,在郧阳区,我们发现了大储量、高品质的石英矿石资源,郧阳区政府“汉江硅谷”发展战略与我们企业“成为国内领先的高纯石英砂供应商”的愿景不谋而合,因此,双方携手启动了鑫阳半导体产业研究院项目。

今年8月,湖北鑫阳半导体科技有限公司开工建设,湖北鑫阳半导体研究院也同步成立。鑫阳半导体为国内首例使用国产石英矿制备光伏及半导体用高纯石英砂的企业。

该公司以成为国际领先的高纯石英砂解决方案供应商企业为愿景,积极推进高纯石英砂的工艺技术研发攻坚,现已系统掌握多项高纯石英砂提纯技术。

研究院将会瞄准光伏及半导体领域,围绕高纯材料进行研发,在填补国内行业空白的同时,吸引半导体材料上下游企业,孵化半导体材料精深加工企业,最大限度挖掘郧阳区优质石英矿石资源,助推郧阳尽快形成半导体产业集群。

项目投产后,预计年可生产光伏及半导体用高纯石英砂2000吨。今后,公司将借助十堰优质的石英矿脉,结合公司领先的技术优势,为下游企业稳定提供优质高纯石英砂,缓解产业链对海外市场的进口依赖。

高纯石英砂:承载未来的“极致纯净”之魂


高纯石英砂的纯度通常要求SiO2含量达到99.99%(4N)以上,甚至99.999%(5N)、99.9999%(6N)乃至更高。其“极致纯净”的含义与战略重要性体现在:
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其“极致纯净”的含义与战略重要性体现在:
极低的杂质含量: 特别是铁(Fe)、铝(Al)、钛(Ti)、钙(Ca)、镁(Mg)、钾(K)、钠(Na)、锂(Li)、硼(B)、磷(P)等金属杂质及羟基(OH)含量,必须控制在ppm(百万分之一)甚至ppb(十亿分之一)级别。这些杂质会严重影响半导体器件的电学性能、光伏电池的光电转换效率以及光学元件的透过率。
特定的粒度分布: 根据下游应用需求,需精确控制粒度,以满足不同工艺要求。
优异的物理化学特性高温稳定性、低热膨胀系数、高透光性(紫外至红外)、优良的电绝缘性、抗辐射性能和化学稳定性等。

正是这些严苛的纯度要求和独特的物理化学性质,使得高纯石英砂成为支撑现代高科技产业发展的不可或缺的“磁力心脏”。

高纯石英砂在光伏产业中的关键应用:

石英坩埚: 这是单晶硅拉棒(Czochralski method, CZ法)过程中必不可少的“容器”,直接决定了单晶硅棒的纯度、晶体质量和寿命。坩埚内层由高纯石英砂熔融而成,要求SiO2含量达到5N-6N(99.999%-99.9999%)以上,铁、铝等杂质含量需控制在1ppm以下,碱金属更是ppb级别。坩埚在高温(约1500℃)熔硅过程中,其内壁会逐渐溶解到硅液中。如果坩埚纯度不够,杂质会污染硅液,进而影响拉出来的单晶硅棒的少子寿命和光电转换效率。

多晶硅铸锭用石英陶瓷材料: 用于制造多晶硅铸锭炉的内衬、隔热板等,同样要求高纯度,以避免对多晶硅块造成污染。

石英舟、石英管等辅助耗材: 在电池片扩散、PECVD等工艺环节中,用于承载硅片或作为反应腔体。

高纯石英粉: 用于填充环氧树脂等封装材料,提升光伏组件的绝缘性、导热性和机械强度。

光伏级高纯石英砂的性能要求与挑战:

光伏产业对高纯石英砂的需求量巨大且纯度要求高。据统计,生产每公斤单晶硅棒约需消耗0.6-1公斤高纯石英砂,其中坩埚用砂占比最大。随着光伏产业向N型电池、大尺寸硅片方向发展,对硅片寿命和载流子复合中心控制更加严格,对石英坩埚的纯度、尺寸精度及热稳定性提出了更高要求。

高纯石英砂在半导体产业中的核心应用:

半导体级石英坩埚: 用于拉制半导体级单晶硅棒(纯度要求达到9N-11N,即99.9999999%以上)。其对杂质控制比光伏级更为严苛,特别是碱金属、硼、磷等,任何微量杂质都可能在晶体生长过程中掺杂进入硅晶格,严重影响芯片的电学性能。半导体级坩埚内层砂的纯度通常要求达到6N以上。

半导体石英炉管/钟罩: 在扩散、氧化、PECVD等晶圆制造核心工艺中,作为承载晶圆并提供洁净反应环境的关键部件。它们必须耐高温、抗腐蚀、无杂质析出,确保工艺过程的纯净度。炉管的内壁纯度直接影响晶圆良率,对金属杂质和羟基含量有严格限制。

石英舟、石英棒、石英板、石英环等半导体耗材: 用于承载晶圆、进行工艺分区或作为支撑结构。

高纯石英粉填充材料: 用于封装材料、环氧塑封料等,提升绝缘性、热管理性能,确保芯片长期可靠运行。

半导体级高纯石英砂的极限纯度要求与技术壁垒:

半导体产业对高纯石英砂的纯度要求达到极致,尤其是半导体级石英坩埚内层砂半导体级石英炉管用砂。其杂质含量需控制在ppb甚至ppt(万亿分之一)级别,这已突破了传统矿物提纯技术的极限。

主要技术壁垒在于:

超低杂质控制: 半导体制造对金属杂质(尤其是Fe、Al、Ti、Na、K、Li)、B、P及羟基(OH)含量要求极为苛刻。例如,Fe含量可能要求低于0.1ppm,Al低于0.5ppm,碱金属低于0.01ppm。

晶体结构缺陷控制: 除了化学纯度,石英原料的晶体结构缺陷(如位错、孪晶)也会影响其在高温下的性能稳定性。

加工工艺洁净度: 从矿石破碎、磨矿到提纯、干燥,整个生产过程必须在超净环境中进行,避免二次污染。

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素材来源:湖北鑫阳半导体科技有限公司、矿业俱乐部

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